4PICO Litho B.V.

MicroMaster

  • Настольная установка безмасковой лазерной литографии для НИОКР
  • УФ-диодный GaN лазер 405 нм, опционально 375 нм. Встроенный 650 нм красный лазер, управляемый системой автофокусировки
  • Размера пятна: 800 нм, опционально 1500 нм, 2500 нм
  • Для УФ-резистов
  • Размер подложек: 5″ или 5″ x 5″ (мин. 5 x 5 мм, макс. 125 x 125 мм)
  • Максимальная область экспонирования 110 х 110 мм2
  • Различные толщины подложек
  • Движения по осям X, Y и опционально по Z (ход 12 мм для разных толщин подложек)

PicoMaster 100

  • Настольная установка безмасковой лазерной литографии для НИОКР
  • УФ-диодный GaN лазер 405 нм, опционально 375 нм. Встроенный 650 нм красный лазер, управляемый системой автофокусировки
  • Стандартный лазерный источник 405 нм предоставляет пользователю 3 размера пятна, которые можно задать: 280 нм, 490 нм и 880 нм.
  • Для УФ-резистов
  • Размер подложек: 4″ или 4″ x 4″ (мин. 5 x 5 мм, макс. 125 x 125 мм)
  • Различные толщины подложек
  • Движения по осям X, Y и опционально по Z (ход 12 мм для разных толщин подложек)
  • Повторяемость <40нм

PicoMaster 150

  • Установка безмасковой лазерной литографии для НИОКР
  • УФ-диодный GaN лазер 405 нм, опционально 375 нм. Встроенный 650 нм красный лазер, управляемый системой автофокусировки
  • Размера пятна: 300 нм, опционально 600 нм, 900 нм
  • Для УФ-резистов
  • Размер подложек: 6″ или 6″ x 6″ (мин. 5 x 5 мм, макс. 160 x 160 мм)
  • Максимальная область экспонирования 150 х 150 мм2
  • Различные толщины подложек
  • Движения по осям X, Y и опционально по Z (ход 12 мм для разных толщин подложек)

PicoMaster 200

  • Установка безмасковой лазерной литографии для НИОКР
  • УФ-диодный GaN лазер 405 нм, опционально 375 нм. Встроенный 650 нм красный лазер, управляемый системой автофокусировки
  • Автоматический селектор размера пятна: 300 нм, 600 нм, 900 нм
  • Для УФ-резистов
  • Размер подложек: 8″ или 8″ x 8″ (мин. 5 x 5 мм, макс. 220 x 220 мм)
  • Различные толщины подложек
  • Движения по осям X, Y и опционально по Z (ход 12 мм для разных толщин подложек)
  • Повторяемость <20нм