Zeiss WLCD

Система метрологического анализа масок

  • Система метрологического контроля критических размеров и фазового сдвига на уровне пластин
  • С уменьшением топологических размеров возрастает роль метрологического контроля кристаллов. По этой причине мы предоставляем системы для контроля критических размеров, фазового сдвига на уровне пластин, каждая из которых может быть измерена в области активного дизайна.
  • WLCD измеряет критический размер (CD) на фотомасках в условиях освещения, соответствующих сканеру, с высокой пропускной способностью. Проверенная технология «аэрофотосъемки» используется для оценки качества печати маски.
  • Система WLCD обеспечивает высокоточное измерение критических размеров в кристалле, прогнозируя производительность фотомаски. Метрология Actinic CD основана на технологии «аэрофотосъемки» с помощью оптики высокого разрешения 193 нм.
  • Настройки освещения, эквивалентного сканеру, включает FreeForm Illumination для поддержки технологий SMO. WLCD фиксирует OPC и оптические эффекты MEEF и упрощает измерения CD для сложных конструкций маски. Совместимость с пленками позволяет быстро провести контроль маски и увеличивать производительность.

к списку

Scroll Up