Zeiss RegC®

Система финальной доводки маски

  • Новое поколение метрологического контроля критических размеров и совмещения
  • Значительно улучшает равномерность CD
  • Одним из ключевых параметров, необходимых для обеспечения функциональности любой интегральной схемы, является единообразие критических размеров (CDU). Существуют различные факторы, которые влияют на общий CDU, такие как единообразие критических размеров маски, влияние сканера и линзы, резистивные профессы, топография пластины, коэффициент усиления ошибки маски (MEEF).
  • Мы предоставляем уникальные решения для измерения и улучшения CDU, если обнаружено несоответствие целевому CD. С помощью системы CDC производители масок могут значительно улучшить равномерность CD на масках, аккуратно изменяя локальное пропускание маски с помощью фемтосекундного лазера. Фемтосекундный лазер вводит небольшие затененные элементы в кварц. Путем локального изменения плотности затененных элементов передача может быть изменена по маске с целью улучшения однородности CD.
  • RegC® позволяет улучшить контроль и совмещение шаблонных масок. Контроль RegC® может осуществляться путем корректировки каждой отдельной регистрации маски в соответствии с ее предполагаемыми идеальными значениями или путем преднамеренной корректировки пар масок в соответствии с их совмещением.
  • RegC® Позволяет соответствовать новым вызовам в совмещении масок.

к списку

Scroll Up