Zeiss PROVE® Compact

Система метрологического анализа масок

  • Высокоразрешающая метрологическая система
  • Идеальное размещение изображений, измерения критических размеров и фазовый контроль.
  • С уменьшением топологических размеров возрастает роль метрологического контроля кристаллов. По этой причине мы предоставляем системы для контроля критических размеров, фазового сдвига на уровне пластин, каждая из которых может быть измерена в области активного дизайна.
  • Система PROVE® Compact выполняет метрологический и overlay контроль для фото масок с повторяемостью и точностью до нанометров и в соответствии текущими и перспективными требованиями к размещению шаблона.
  • PROVE® Compact – последнее поколение в семействе систем метрологического и overlay контроля фотомасок. По сравнению с предшественником PROVE® Compact обладает новой концепцией дизайна, позволяющей оптимизировать пространство в чистых помещениях. Система состоит из основного блока и двух спутников, которые могут быть разделены.
  • PROVE® Compact обеспечивает высокое разрешение с оптикой 193 нм для для использования в небольших производственных задачах. Система обеспечивает встроенный метрологический контроль без необходимости размещения регистрационных меток.
  • Работает с NA 0,6 для большей глубины фокуса и большого рабочего расстояния. Система использует запатентованную стратегию автофокуса и калибровки для максимальной точности. Инструмент обеспечивает превосходную стабильность для обеспечения высокой производительности и повторяемости.
  • PROVE® Compact позволяет измерять самые современные типы фотомасок, такие как OMOG и EUV, и совместим со всеми типами пленок. Он оснащен удобным для оператора программным обеспечением и предлагает возможности автоматизации, такие как SECS / GEM.

к списку

Scroll Up