Zeiss CDC32

Промышленная система финальной доводки масок

  • Продвинутый контроль критических размеров
  • Значительно улучшает равномерность критических размеров (CDU)
  • Одним из ключевых параметров, необходимых для обеспечения функциональности любой интегральной схемы, является единообразие критических размеров (CDU). Существуют различные факторы, которые влияют на общий CDU, такие как единообразие критических размеров маски, влияние сканера и линзы, резистивные профессы, топография пластины, коэффициент усиления ошибки маски (MEEF).
  • Мы предоставляем уникальные решения для измерения и улучшения CDU, если обнаружено несоответствие целевому CD. С помощью системы CDC производители масок могут значительно улучшить равномерность CD на масках, аккуратно изменяя локальное пропускание маски с помощью фемтосекундного лазера. Фемтосекундный лазер вводит небольшие затененные элементы в кварц. Путем локального изменения плотности затененных элементов передача может быть изменена по маске с целью улучшения однородности CD.
  • Система CDC32 улучшает однородность критических размеров (CDU) в фото масках с высокой повторяемостью и точностью.
  • Система CDC32 повышает производительность, возвращая маскам обратно CDU соответствующую спецификации. Это позволяет использовать существующее установленное оборудование для производства масок. Доказано, что обработанные CDC32 маски значительно увеличивают выход годных пластин.
  • CDC32 может использоваться со всеми существующими или будущими типами и технологиями оптических масок, такими как бинарные маски и PSM, а также обратная литография, маски SMO и OMOG, включая двойное структурирование.

к списку

Scroll Up