Zeiss AIMS™ 32x-193i

Система анализа качества масок

  • Даже малейшие дефекты компоновки одного фотошаблона могут привести к огромным потерям при экспонировании чипов на пластине. Вот почему так важно проверить все маски на наличие дефектов, понять их влияние на процесс фотолитографии и устранить их до того, как маска будет использована в степпере или сканере. Наилучший способ надежного контроля качества на этом этапе – оптическая имитация фотолитографического процесса с использованием метода аэрофотосъемки (AIMS™).
  • Система AIMS ™ является единственным в мире эмулятором сканера, охватывающим все методы литографии, включая двойное структурирование, оптимизацию исходной маски (SMO) и обратную литографию.
  • AIMS™ 32-193i это уникальная система проверки масок, используемая предприятиями изготавливающими фотошаблоны для проверки дефектов масок и анализа возможности их использования для производства.
  • Система позволяет прецизионно позиционировать фотошаблон с помощью оптического интерферометра контролирующего перемещение стейджа.
  • Еще одним важным моментом является значительно улучшенная CD повторяемость, позволяющая более точно определять дефекты, что соответствует требованиям дорожной карты ITRS при переходе к меньшим размерам компонентов.

к списку

Scroll Up