Zeiss AIMS™ 1x-193i

Система анализа качества масок

  • Даже малейшие дефекты компоновки одного фотошаблона могут привести к огромным потерям при экспонировании чипов на пластине. Вот почему так важно проверить все маски на наличие дефектов, понять их влияние на процесс фотолитографии и устранить их до того, как маска будет использована в степпере или сканере. Наилучший способ надежного контроля качества на этом этапе – оптическая имитация
  • AIMS™ 1x-193i это уникальная система проверки масок, используемая предприятиями изготавливающими фотошаблоны для проверки дефектов и анализа возможности их использования. Система позволяет пользователю оценивать оптические характеристики маски в условиях эквивалентных сканеру.
  • The AIMS™ 1x-193i работает с освещением на длине волны 193 нм и использует модернизированную оптическую схему. Используя FlexIllu® обеспечивает высочайший уровень гибкости настроек освещения. FlexIllu® устанавливает параметры освещения эквивалентные сканеру которыми можно управлять с компьютера.
  • Благодаря достижениям в оптическом дизайне, а также значительным улучшениям в программном обеспечении, AIMS ™ 1x-193i позволяет значительно сократить время проведения проверки фотошаблонов.
  • Еще одним важным моментом является значительно улучшенная CD повторяемость, позволяющая более точно определять дефекты, что соответствует требованиям дорожной карты ITRS при переходе к меньшим размерам компонентов.

к списку

Scroll Up