Veeco TurboDisc EPIK 700 MOCVD

  • Многореакторная установка мос-гидридной эпитаксии для осаждения слоев GaN
  • Предназначена для массового производства
  • Различные варианты кассет для пластин, включая 31×4”, 12х6” и 6х8”
  • Мос-гидридная эпитаксиальная установка, являющаяся высшей системой светодиодной индустрии по производительности, что снижает стоимость одной пластины до 20 процентов по сравнению с предыдущими поколениями.
  • Доступны одно-и двух-реакторные конфигурации
  • Технологии IsoFlange™ и TruHeat™, которые обеспечивают однородный ламинарный поток и равномерное распределение температуры по всей пластине.
  • Установка обеспечивает в 2,5 раза большую пропускную способность в сравнении с другими системами из-за большого размера реактора.
  • Легкий перенос процессов из существующих эпитаксиальных систем TurboDisc на EPIK 700 для быстрого старта производства высококачественных светодиодов.
  • Лучшая в своем классе однородность и повторяемость процесса
  • Длительные сроки между техобслуживанием и улучшенным след
  • Лучшая эффективность по сравнению с системами MaxBright

Scroll Up

ООО «СКТО ПРОМПРОЕКТ» обязуется не распространять и не передавать персональные данные третьим лицам.