Veeco GEN200 Edge MBE

  • Кластерный промышленный комплекс молекулярно-лучевой эпитаксии с загрузкой 4×4″ пластины для эпитаксиального наращивания на GaAs- или InP- подложках для лазеров с накачкой, полупроводниковых лазеров с вертикальным резонатором и поверхностным излучением (VCSELs) и биполярных транзисторов с гетероперходом (HBTs)
  • Объем загрузки пластин: 14×2″, 7×3″, 4×4″, 1×6″, 1×8″
  • Тип загрузки образцов: автоматический
  • Автоматизированная транспортировка пластин позволяет использовать установку с большей эффективностью
  • Внутреннее хранилище пластин поддерживает условия, необходимые перед стадией роста, с объемом до ста 4″ пластин
  • Существует возможность присоединения дополнительно до двух ростовых модулей для резкого увеличения производительности или согласования несочетающихся материалов
  • Установление перегородки – опция, предназначенная для отделения загрузочных модулей от собственно кластерной установки и ростовых модулей с целью обеспечения чистого внутреннего объема
  • Отличная однородность пленок даже при работе с такими материалами, как оксиды и нитриды.

Scroll Up

ООО «СКТО ПРОМПРОЕКТ» обязуется не распространять и не передавать персональные данные третьим лицам.