Veeco GEN20 MBE

  • Установка молекулярно-лучевой эпитаксии для НИОКР и опытного производства
  • Совместная компановка ростового модуля установки GEN10 и производственной системы GEN200 в системе GEN20 позволяет легко перейти от НИОКР к выпуску опытных партий
  • Многоцелевая установка для соединений А3В5 и новых материалов с вертикальным расположением источника-подложки
  • 12 камер с источниками, опционно добавляется устройство с электронным лучом
  • Объем загрузки пластин: 3×2″, 1×3″, 1×4″,
  • Тип загрузки образцов: ручной или автоматический
  • Автоматизированная транспортировка пластин позволяет использовать установку с большей эффективностью. Автоматизированная система перемещает пластины между загрузочным шлюзом, камерой предварительной подготовки, хранилищем и ростовым модулем
  • В камере подготовки опционально может производиться нагрев до 1350°С и очистка водородом. Внутреннее хранилище пластин поддерживает условия, необходимые перед стадией роста.
  • Увеличенную пропускную способность и производительность установки обеспечивают входные и выходные шлюзы.
  • Содержит перестраиваемые криопанели, диафрагмы, встроенное контрольное оборудование
  • Модульная конструкция обеспечивает до двух модулей роста
  • Идеальна для нитридных покрытий из-за непосредственно связанных вакуумируемых камер
  • Может объединяться с UNI-Bulb ВЧ плазменным источником для окисления – для НИОКР оксид/металлов
  • Модифицируется для ВЧ азотной МЛЭ или МЛЭ на основе аммиака
  • 3 варианта модулей: GEN20MC, GEN20MZ, GEN20A

Scroll Up

ООО «СКТО ПРОМПРОЕКТ» обязуется не распространять и не передавать персональные данные третьим лицам.