Veeco Discovery 180 (D180) LDM MOCVD

  • Установка мос-гидридной эпитаксии для осаждения слоев InGaAsP, InGaAlP и AlGaAs
  • Осаждение слоев для производства полупроводниковых лазеров с вертикальным резонатором и поверхностным излучением (VCSELs), лазерных диодов, AlGaAs и InGaAs детекторов
  • Применяется технология TurboDisc® MOCVD – технология вертикального реактора с вращающимся диском
  • Вакуумный загрузочный шлюз обеспечивает высокую производительность и предотвращает загрязнение кислородом и парами воды (дополнительный турбомолекулярный насос, пригодный для глубокой вакуумной откачки загрузочного шлюза)
  • Вертикальная конфигурация ростовой камеры минимизирует нежелательные отложения частиц
  • Особая Flow Flange конструкция обеспечивает условия для точного управления однородностью, толщиной слоя и крутизной границы раздела
  • Установка для мелкосерийного производства
  • Различные варианты кассет для пластин, включая 6 x 2”, 3 x 3”, 1 x 4” и 1 x 6”
  • Устройство оптического контроля RealTemp обеспечивает внутрипроцессный мониторинг и управление температурой пластины в течение производственного цикла
  • Погрузчик для кассет поддерживает до 3 кассет для пластин для перемещения в ростовую камеру (встроенная защитная камера с перчатками, применимая для стерильной загрузки/разгрузки пластин)
  • Очистительные фильтры газовых линий удаляют макрочастицы, влагу и молекулярные загрязнители
  • Передовые нагревательные элементы ростовой камеры обеспечивают быстрый нагрев/время охлаждения между циклами
  • Магнитно связанный с приводом манипулятор точно устанавливает кассеты на держатель
  • Встроенная система контроля для оперативного точного измерения температуры и скорости роста уменьшает операционные затраты и оптимизирует выход приборов
  • Размеры установки: длина = 169” (430см), ширина = 51” (130см), высота = 81” (206см)

Scroll Up

ООО «СКТО ПРОМПРОЕКТ» обязуется не распространять и не передавать персональные данные третьим лицам.