SAMCO RIE-300NR

• Высокоэффективная, высокоточная полностью автоматическая установка реактивно-ионного травления  с открытой загрузкой для НИОКР и анализа отказов ИС
• Назначение: вскрытие пассивирующих материалов, включая нитрид кремния, диоксид кремния; высокоселективное анизотропное травление всех типов кремнесодержащих пленок, полупроводниковых соединений и тугоплавких металлов, включая Si, SiO₂, поликремний, Si₃N₄, GaAs и Mo; микромеханическое производство; удаление материалов на интегральных схемах для анализа отказов; травление органических материалов 
• Рабочая камера: алюминиевая
• Загрузка ручная, открытая
• Пластины:  ø75мм – 12шт, ø100мм – 8шт., ø150мм – 3шт., ø300мм – 1шт.
• Электроды: верхний алюминиевый электрод с распылителем газа, нижний алюминиевый электрод-подложкодержатель с жидкостным охлаждением
• ВЧ-генератор: до 1000Вт, 13,56МГц, с автоматическим согласованием сопротивления
• Газовая система: до 6 газовые линии процессных газов с РРГ 
• Вакуумная система: турбонасос и роторный форвакуумный насос; четырехпоточная система вакуумирования
• Система управления: компьютеризированная сенсорная панель обеспечивает контроль за параметрами процесса, ввод и хранение технологических программ.  Полная автоматизация процесса (одной кнопкой) и возможностью ручнго управления
• Габариты: установка — (850x1680x1913) мм, насосный блок — (590x170x230) мм
• Окончание процесса: по оптическому интерферометру

к списку