ЭМ-5084Б

Автоматическая установка совмещения и экспонирования
Предназначена для совмещения и помодульного экспонирования полупроводниковых пластин при производстве СБИС и других изделий электронной техники
Рабочая длина волны 404нм
Фотолитографическое разрешение 0.8 мкм
Масштаб проекционного уменьшения 1:5
Размер максимального рабочего поля модуля 16 х16 мм
Случайная составляющая погрешности совмещения ±100 нм
Диаметр обрабатываемых пластин (перенастраиваемый) 100мм, 150мм, 200мм
Размер фотошаблонов 127х127 мм
Емкость библиотеки шаблонов 10 шт.
Потребляемая мощность, не более 4 кВт

Обратная связь