VERSALINE ICP/RIE

  • Установка травления материалов в индуктивно-связанной плазме от НИОКР до крупносерийного производства.
  • Подложки размером: 8х2”, 4х3”, одиночные от 3” до 8”
  • Варианты загрузки: загрузка через шлюз (одиночные пластины или партия); кассетная загрузка пластин или образцов
  • Библиотека стандартных технологических процессов травления: GaN, GaAs, AlGaP, InP, InGaAs, HgCdTe; SiC, Al2O3; Si, SiO2, SiNx; Cr, Ti, Al, TiN, TiW, Mo; фоторезист, полиимид
  • 200-мм подложкодержатель (электрод) с контролем температуры, цифровые регуляторы массового расхода,  до 8 газовых каналов (4 – стандартно)
  • Температура термостабилизируемого подложкодержателя (электрода) -40÷+180°C
  • Источники: RIE – 600Вт 13,56 МГц (опционно до 40 МГц); ICP – 2000 Вт, 2 МГц (опционно 3500 Вт, 2 МГц), ICP-источник с температурным контролем.
  • Комплексное управление оконечными устройствами с различными опционными измерительными устройствами, протокол внештатных ситуаций, различные уровни доступа пользователей, управление процессом в реальном времени с визуальным отображением данных на сенсорном мониторе
  • Форвакуумный безмасляный насос 80 м3/ч, турбомолекулярный насос 1200 л/с, обеспечение вакуумом уровня 1,0х10-6 торр
  • Электропитание: 380В, 50Гц, 3ф; 200÷230В, 50/60Гц
  • Габариты: 207,8х188,7х64,0см – вариант с автоматическим шлюзом

к списку

Scroll Up

ООО «СКТО ПРОМПРОЕКТ» обязуется не распространять и не передавать персональные данные третьим лицам.