SENTECH SI 500(ICP/RIE)

  • Автоматическая установка высокоскоростного травления индуктивно-связанной плазмой/реактивно-ионного травления с  шлюзовой загрузкой для НИОКР и мелкосерийного производства
  • Назначение: высокоскоростное травление кремния для МЭМС, травление полупроводниковых соединений А3В5  (GaAs, InP, GaN, InSb), диэлектриков, кварца, стекла, соединений кремния (SiC, SiGe), металлов и пр.
  • Вакуумируемая алюминиевая загрузочная камера. Загрузка по одной пластине или группе пластин на носителе
  • Пластины:  ø3”, ø4”, ø6”, ø8”/200мм и высотой до 9 мм, оперативное управление температурой пластины за счет гелиевого охлаждения обратной стороны
  • Рабочая камера: алюминиевая
  • Электроды: ИСП –электрод (верхний) — Planar Triple Spiral Antenna, нижний –электрод с подложкодержателем
  • Подложкодержатель: алюминиевый,  механический захват, гелиевое охлаждение
  • Температура подложки: (-20÷300)°C   
  • Источник ИСП: 1200Вт, 13,56МГц, с автоматическим согласованием сопротивления. Источника смещения – 600Вт, 13,56МГц, с автоматическим согласованием сопротивления
  • Газовая система: до 8 газовых линий с РРГ, продувочный азот, гелий
  • Применяемые газы: Cl2, HBr, SiCl4, BCl3, CHF3, CF4, SF6, O2, Ar, Hе, N2 и прочие
  • Вакуумная система: для рабочей камеры – водоохлаждаемый турбомолекулярный насос 1200 л/с и коррозионностойкий форвакуумный насос; для загрузочной камеры — безмасляный форвакуумный насос
  • Система управления: компьютерная, с Windows XP/Wista
  • Электроэнергия: 400В, 3ф, 32А, 50/60Гц
  • Очищенный сжатый воздух: 6 кг/см2
  • Азот: (3÷4) кг/см2, 25 л/процесс
  • Охлаждающая вода: 4 кг/см2, (6÷8) л/мин, (15÷20)°С
  • Вытяжная вентиляция: 15 м3/мин; подключение к газовому шкафу – ø80мм, к насосам – DN 40 KF
  • Габариты: реакторный блок – (655x1850x1460/1600 при подъеме ICP источника) мм, стойка управления – (650x800x1200) мм, насосный модуль – (700x630x1100) мм, шкаф для основных подключений – (400x300x500) мм  
  • Вес: реакторный блок – 270 кг, стойка управления – 120 кг, насосный модуль – 150 кг, шкаф для основных подключений – 30 кг
  • Опционно: термостат для системы рециркуляции; различные варианты насосных систем; измерения и оповещение об окончании процесса по интерферометру; дополнительные газовые линии; цифровые РРГ на пьезокристаллах; нагреваемый корпус реакторной камеры; датчик температуры обратной стороны пластины с оптоволоконным присоединением; конфигурации для кластера – с однопластинной загрузкой либо с кассетной загрузкой  

к списку