ORBIS™ Alpha™

  • Установка для травления в среде XeF2 и HF оксидов и кремния при изготовлении МЭМС для НИОКР
  • Применяется для изготовления датчиков, ВЧ МЭМС, микроболометров, температурных датчиков, микроакселерометров, ВЧ-переключателей
  • Применение XeF2 эффективно для травления различных материалов, включая SiO2 и Si3N4, HF наиболее эффективен при травлении Si3N4
  • Подложки размером до 200 мм
  • Ручная загрузка
  • Резистивный сенсорный экран, управление компьютером
  • Высокая однородность (<5% 1σ)
  • Высокая воспроизводимость (<5% 1σ)
  • Без коррозии и прилипаний
  • Встроенные средства управления: автоматический регулятор скорости травления, управление оконечными устройствами, поддержание температуры
  • Габариты: 600 x 540 x 900 мм

Scroll Up

ООО «СКТО ПРОМПРОЕКТ» обязуется не распространять и не передавать персональные данные третьим лицам.