Heidelberg DWL 4000

  • Лазерный генератор изображений для фотошаблонов c высокой разрешающей способностью
  • Диодный лазер 405 нм, от 100 мВт или Газовый криптон-ионный лазер 413 нм, 300 мВт или УФ-диодный лазер 375 нм, 18 мВт
  • Для тонких и стандартных резистов или для УФ-резистов
  • Максимальный размер подложки до 425 х 425 мм2
  • Толщина подложек до 6 мм
  • Максимальная область экспонирования 400 х 400 мм2
  • Минимальный размер структурного элемента 0,5 мкм
  • Размер адресной сетки уменьшен до 5 нм
  • Режимы многократного нанесения рисунка
  • Режим векторного экспонирования
  • Режим современной трехмерной экспозиции
  • Скорость экспонирования от 26 до 1120 мм2/мин
  • Поддержка форматов DXF, CIF, GDSII, Gerber, STL
  • Встроенная прецизионная система поддержания микроклимата ±0,1 ОС, класс чистоты в рабочей зоне установки ИСО 4. Рекомендуемые параметры микроклимата для помещения 21 ± 1 ОС, класс чистоты ИСО 5.

к списку

Scroll Up

ООО «СКТО ПРОМПРОЕКТ» обязуется не распространять и не передавать персональные данные третьим лицам.