GSL-1800X-SBC2-LD

  • Многофункциональная напольная высоковакуумная установка плазменного нанесения покрытий для НИОКР с ручной загрузкой-выгрузкой подложек
  • Объединяет в одной установке процессы  термического испарения, плазменного магнетронного напыления, осаждения углеродных покрытий для нанесения пленок материалов, таких как металлы, полупроводники, диэлектрики и т.д.
  • Источники для осаждения пленок: AC-источник до 10 В, до 100 А для термического испарения – позволяет испарять два материала одновременно, вольфрамовый нагреватель обеспечивает температуру до 1800ºC; источник для осаждения углеродных пленок содержит два угольных стержня; DC-источник до 3 кВ, до 10 мА для плазменного магнетронного напыления
  • Процессная вакуумная камера: вакуумный колпак из боросиликатного стекла размерами ø 250 мм х 340 мм с расположенными внутри него двумя кварцевыми трубками для защиты от излучения (одна – внутр. ø 88 мм х 140 мм – для процесса термического испарения, вторая – внутр. ø 88 мм х 57 мм – для процесса плазменного магнетронного напыления), а также сетчатый экран из нержавеющей стали для защиты от излучения при процессе термического испарения
  • Установка укомплектована панелью управления для выбора метода покрытия, корректировки процессов распыление и испарения 
  • Высокоскоростная  турбовакуумная насосная система: 600 л/с, 1 х 10-6 торр
  • Игольчатый клапан для регулировки подачи аргона
  • Мишени: в состав установки входят 1 мишень из золота ø38 мм х 0,12 мм. Опционно: мишени различных диаметров из высокочистых оксидов и металлов (Al, Zn, Cu)
  • Электропитание: 208÷240В, 10А, 50/60Гц, 1ф, 2500Вт (включая насос )
  • Габариты: 800 × 560 × 1340 мм
  • Вес: 150 кг

к списку