FHR.Micro.150-PECVD

  • Лабораторная установка плазмостимулированного химического осаждения из газовой фазы
  • Назначение: осаждение слоев a-Si, SiNx, SiOx, SiOxNy, алмазоподобных углеродных покрытий и прочих
  • Подложкодержатель с фиксаторами для подложек диаметром до 100 мм
  • Ручная загрузка-выгрузка подложек
  • Ручное управление
  • Процессная камера из алюминия
  • Температура процесса: до 400°C
  • RF-источник напыления 13,56 МГц
  • RF-электрод диаметром 150 мм
  • Процессные газы: азот (N2), закись азота (N2O), моносилан (SiH4), метан (CH4) , аммиак (NH3) и прочие

Scroll Up

ООО «СКТО ПРОМПРОЕКТ» обязуется не распространять и не передавать персональные данные третьим лицам.