EQ-PCE-6

  • Среднеразмерная установка плазменной предочистки кристаллических подложек и удаления наноразмерных органических загрязнений
  • Назначение: проведение процессов очистки и удаления наноразмерных органических загрязнений на пластинах до 4” с использованием различных газов, в том числе перед процессами эпитаксии
  • Скорость удаления органических загрязнений – около 20 нм/мин при высоком уровне мощности RF-источника
  • Источник плазмы: RF-источник, 13,56 МГц, режимы 7,2 / 10,2 / 30 Вт (общая мощность источника < 100Вт)
  • Ручная загрузка-выгрузка подложек, опционно – кварцевая 4″ кассета-лодочка для пластин, позволяющая за одну загрузку обработать 25 пластин ø2”  
  • Панель управления обеспечивает контроль за временем очистки, мощностью RF-источника, работой вакуумного насоса
  • Кварцевая процессная камера объемом 3 литра и размерами: ø6” х 6,5”, с дверкой на петлях для облегчения загрузки
  • Используемые газы: аргон (Ar), азот (N2), воздух, газовые смеси в зависимости от вида обрабатываемого материала
  • Высокоскоростной двухступенчатый вакуумный насос производительностью 13,6 м3/ч (220В, 50/60Гц, 1ф, 500Вт)
  • Опционно: двухканальный блок смешивания газов
  • Электропитание: 220В, 50/60Гц, 1ф, 600Вт
  • Вес: блок плазменной очистки – 13,6кг,  упаковочный полный – 63,5 кг
  • Габариты: плазменной очистки – 16″ x 12″ x 12″,  упаковочные полные – 40″ x 30″ x 23″

Scroll Up

ООО «СКТО ПРОМПРОЕКТ» обязуется не распространять и не передавать персональные данные третьим лицам.