Centrotherm Epicoo 200

  • Вертикальная групповой загрузки печь (ХОГФ НД — не-/селективная эпитаксия Si и SiGe) 
  • Загрузка: до 125 пластин Ø200мм
  • Температура процесса: от 300 до 1000°C
  • 6 независимых термических зон
  • Точность поддержания нагрева ±0,5°C в пределах зоны
  • Рабочие газы: SiH4, SiH2Cl2, HCl, GeCl4, H2, B2H6, NH3, N2, PH3
  • Вакуумный загрузочный шлюз с продувкой водородом
  • Продувка азотом накопителя пластин

к списку