НИКА М-30

  • Автоматизированная установка для промышленного выращивания кристаллов искусственного сапфира методом Киропулоса
  • Прямое высокоточное взвешивание кристалла
  • Размеры тигля для расплава (диаметр х высота): 250х300 мм
  • Масса кристалла: 30  кг
  • Чувствительность датчика веса: не менее 1 г
  • Источник нагрева: Резистивный
  • Максимальная температура рабочей зоны:  2200°С
  • Скорость перемещения штока: от 0,1 до 3600 мм/час
  • Скорость вращения штока: от 1 до 20 об/мин
  • Рабочий ход штока: 200  мм
  • Предельный вакуум в ростовой камере: 5х10-5  мм.рт.ст.
  • Электричество: 3ф, 380 В, 50 Гц
  • Установленная мощность: 100 кВт
  • Расход воды:  ≤7   м³/ч
  • Давление охлаждающей воды: от 150 до 250кПа
  • Система видеонаблюдения; измерение  и контроль массовой скорости кристаллизации

к списку

Scroll Up